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古莎Kulzer|高性能金相专用抛光布盘(背胶型)|3TL1型,自粘型,300mm5片/盒|KLA000076|KLA000076

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层(深干扰层)露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。

  • 原始编号:KLA000076      杰星编号:PSA02071

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商品名称:古莎Kulzer|高性能金相专用抛光布盘(背胶型)|3TL1型,自粘型,300mm5片/盒|KLA000076|KLA000076

一、产品介绍

高性能金相专用抛光布盘(背胶型)
金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层(深干扰层)露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光,通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。
抛光布轮也是依据样品硬度来选择的,选择适合的抛光布是用来提高抛光效率,节约制样时间的。(不合适的抛光布也可以最终完成抛光,但是会增加抛光的时间和操作的难度。)

二、应用领域

研磨耗材主要应用在玉石、寿山石、水晶、玛瑙、工艺品。近年来已在电子、光电、玻璃制品、电子管、晶体、工艺品、水晶灯饰、精密加工等行业广泛使用。

三、产品特点

高性能金相专用抛光布盘(背胶型)
抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程,
初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕,获取平整的样品表面,
终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕,达成完美光滑观测面。

预抛时底部由硬质磨盘支撑,金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层(深干扰层)
预抛时底部由硬质磨盘支撑,金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层(深干扰层)

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